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          名称:银靶

                规       格:旋转靶材、平面靶材                         纯度:≥99.99%    

                成型工艺:冷喷涂、熔炼轧制                                  

                应       用:半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、精密光学工业

                                 装饰与功能镀膜工业、节能与智能玻璃工业、超导与量子电子工业

                                                                                                                                                              了解更多.png

               





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          名称:铌靶

                规       格:旋转靶材、平面靶材                         纯度:≥99.95%    

                成型工艺:冷喷涂、热喷涂、真空熔炼                              

                应       用:半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、精密光学工业、装饰与功能镀膜工业

                                节能与智能玻璃工业

                                                                                                                                                              了解更多.png‍







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          名称:钛靶

                规       格:旋转靶材、平面靶材                         纯度:≥99.995%    

                成型工艺:冷喷涂、锻造轧制                                  

                应       用:半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、精密光学工业、

                                 装饰与功能镀膜工业、超导与量子电子工业

                                                                                                                                                               了解更多.png‍                                    






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          名称:铝靶

                规       格:旋转靶材、平面靶材                         纯度:≥99.999%    

                成型工艺:冷喷涂、挤压拉拔                                  

                应       用:半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、精密光学工业、

                                 装饰与功能镀膜工业、超导与量子电子工业

                                                                                                                                                               了解更多.png‍                                  

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