名称：氧化锆靶

                规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.7%    

                成型工艺：热喷涂                                  

                应       用：半导体电子工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、精密光学工业、节能与智能玻璃工业、

                                 超导与量子电子工业                  

                                                                                                                                                               ‍                                    

          名称：氧化‍铌靶

                规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.95%    

                成型工艺：热喷涂                                  

                应       用：半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、精密光学工业、节能与智能玻璃工业、

                                 超导与量子电子工业

                                                                                                                                                               ‍                                    

          名称：氧化‍钛靶

                规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.95%    

                成型工艺：热喷涂、真空热压                                  

                应       用：半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、精密光学工业、

                                 装饰与功能镀膜工业、节能与智能玻璃工业、超导与量子电子工业

          名称：氧化钛锆靶

                规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.9%    

                成型工艺：热喷涂                                  

                应       用：精密光学工业、超导与量子电子工业

                                                                                                                                                              ‍