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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

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1000

旋转铜靶Cu

化学式: Cu
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥ 8.57g/cm³
纯度:  ≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)
最大杂质含量(单位:ppm, 总杂质含量≤1000ppm)
应用:  用于装饰玻璃镜膜、PCB板镀膜、平面显示行业、电子行业等。
最大加工尺寸
长度L: 4000mm    厚度T: 6-13mm
直型、狗骨型
按客户要求定做
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金属靶材
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发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

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