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平面钼铌靶MoNb

平面钼铌靶MoNb

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平面钼铌靶MoNb

化学式: MoNb
成型工艺: 烧结挤压
密度: ≥9.7g/cm³(≥97%)
电阻率(Resistivity) (20°C): < 0.187 ohm. cm
纯度: 99.95%
应用: 广泛用于光学玻璃,触摸屏玻璃膜系,导电玻璃,TFT-LCD ,触摸屏,半导体电子
最大加工尺寸: 长度L1500*宽度W300*厚度T10mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做
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