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平面氧化铌靶NbOx
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平面氧化铌靶NbOx
成型工艺: 热压烧结
密度: ≥4.54g/cm³（≥99.5%)
电阻率（Resistivity） （20°C）: < 1 ohm. cm
纯度: 99.99%
应用: 广泛用于光伏玻璃，光学玻璃，触摸屏玻璃，建筑汽车玻璃膜系，导电玻璃
最大加工尺寸: 长度L300*宽度W300*厚度T10mm，多片拼接帮定在铜背板上，按客户要求定做
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