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平面石墨靶C
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平面石墨靶C
成型工艺: 等靜压(IP)
密度: ≥1,85g/cm³(≥99.5%)
纯度: 99.95%
应用: 主要用于制作类金刚石膜,作为刀具、工具的保护膜,共溅射碳化物膜的C源靶,Low-E玻璃
最大加工尺寸: 长度L1000*宽度W300*厚度T12mm,多片拼接帮定在铜背板上,按客户要求定做
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