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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

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1004

旋转铬靶Cr

化学式: Cr
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥ 6.47g/cm³
纯度:  ≥ 99.5%
应用:  用于制作Cr及CrNO膜,主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜, LOW-E镀膜玻璃, 半导体电子
最大加工尺寸:   长度: 4000MM    厚度: 6-10MM,  直型、狗骨型, 按客户要求定做
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金属靶材
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发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

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