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旋转硅靶Si
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旋转硅靶Si
电阻率（20°C）: 0.01-400Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 2.26g/cm³（≥96%）
纯度: ≥ 99.9%
应用: 用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏
最大加工尺寸: 长度: 4000MM 厚度: 6-10MM, 直型、狗骨型, 按客户要求定做
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