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旋转硅靶Si

旋转硅靶Si

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旋转硅靶Si

化学式: Si
电阻率(20°C): 0.01-400Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 2.26g/cm³(≥96%)
纯度: ≥ 99.9%
应用: 用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏
最大加工尺寸: 长度: 4000MM 厚度: 6-10MM, 直型、狗骨型, 按客户要求定做
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