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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

浏览量:
1002

旋转硅靶Si

化学式: Si
电阻率(20°C): 0.01-400Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥ 2.26g/cm³(≥96%)
纯度:  ≥ 99.9% 
应用:  用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏
最大加工尺寸:   长度: 4000MM    厚度: 6-10MM,  直型、狗骨型, 按客户要求定做
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金属靶材
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发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

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