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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

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1001

旋转氧化钛靶TiOx

化学式: TiOx(1.7<x<1.9)
电阻率(20°C):  ≤ 0.3 Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥ 4.05g/cm³(≥95%)
纯度:  ≥ 99.6%
应用: 用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,LOW-E镀膜玻璃
最大加工尺寸:   长度: 4000MM    厚度: 6-10MM,  直型、狗骨型, 按客户要求定做
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陶瓷靶材
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发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

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