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磁控溅射靶材
浏览量:
1001
旋转氧化钛靶TiOx
电阻率（20°C）: ≤ 0.3 Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 4.05g/cm³（≥95%）
纯度: ≥ 99.6%
应用: 用于制作TiO2膜，主要用于光学玻璃AR膜系，LOW-E镀膜玻璃
最大加工尺寸: 长度: 4000MM 厚度: 6-10MM, 直型、狗骨型, 按客户要求定做
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陶瓷靶材
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