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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

浏览量:
1001

旋转氧化铌靶NbOx

化学式: Nb2Ox (4.3<x<4.9)
电阻率(20°C): ≤ 0.1Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度:  ≥4.3g/cm³(≥95%)
纯度:  ≥ 99.95%
应用: 主要用于LOW-E镀膜玻璃,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT-LCD,半导体电子
最大加工尺寸:   长度: 4000MM    厚度: 6-10MM,  直型、狗骨型, 按客户要求定做
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陶瓷靶材
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发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

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