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旋转硅铝靶SiAl
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旋转硅铝靶SiAl
电阻率（20°C）: ≤ 0.1Ω.cm
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 2.22g/cm（≥95%）
纯度: ≥ 99.9%
应用: 用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜系，LOW-E镀膜玻璃,半导体电子电子,TFT-LCD,平面显示,触摸屏玻璃
最大加工尺寸: 长度: 4000MM 厚度: 6-13MM, 直
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