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磁控溅射靶材
浏览量:
1003
旋转铝靶Al
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 2.6g/cm³(≥96%)
纯度: ≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)
应用: 主要用于表面装饰及功能镀膜，半导体电子, TFT-LCD, 平面显示，薄膜太阳能行业
最大加工尺寸： 长度L: 4000MM 厚度T: 6-15MM，直型、狗骨型，按客户要求定做
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产品编号
前台产品分类:
金属靶材
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1
产品描述
参数
纯度:
Al
喷涂
≥ 2.6g/cm³(≥96%)
≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)
化学式:
成型工艺:
密度:
≤200
最大杂质含量（单位: ppm，总杂质含量≤1000ppm）
Fe
≤300
Cu
≤100
Ni
≤100
Sn
≤50
O
≤1500
N
Zn
≤50
Rotatable Al Sputtering Target
最大加工尺寸：
长度L: 4000MM 厚度T: 6-15MM
直型、狗骨型
按客户要求定做
旋转铝靶
产品化学成分和物理性能：
应用:
主要用于表面装饰及功能镀膜，半导体电子, TFT-LCD, 平面显示，薄膜太阳能行业
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