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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

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1003

旋转铝靶Al

化学式:Al
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 2.6g/cm³(≥96%)
纯度: ≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)
应用: 主要用于表面装饰及功能镀膜,半导体电子, TFT-LCD, 平面显示,薄膜太阳能行业
最大加工尺寸: 长度L: 4000MM    厚度T: 6-15MM,直型、狗骨型,按客户要求定做
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金属靶材
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1
产品描述
参数

纯度:   

Al

喷涂

≥ 2.6g/cm³(≥96%)

≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)

化学式: 

成型工艺: 

密度:  

≤200

最大杂质含量(单位: ppm,总杂质含量≤1000ppm)

Fe

≤300

Cu

≤100

Ni

≤100

Sn

≤50

O

≤1500

N

Zn

≤50

 

Rotatable Al Sputtering Target

最大加工尺寸: 

长度L: 4000MM    厚度T: 6-15MM

直型、狗骨型

按客户要求定做

 

旋转铝靶 

产品化学成分和物理性能:

应用: 

主要用于表面装饰及功能镀膜,半导体电子, TFT-LCD, 平面显示,薄膜太阳能行业

 
 
 
 
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发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

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