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旋转氧化铟锡靶ITO

旋转氧化铟锡靶ITO

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Product name

旋转氧化铟锡靶ITO

化学式:In2O3:SnO2
成型工艺: 冷等静压+高温烧结+帮定
密度: ≥ 7.13g/cm3(≥99.7%)
纯度: ≥ 99.99%
应用: 主要用于TN,STN型液晶显示器和触摸屏,半导体电子,薄膜太阳能行业,建筑玻璃
最大加工尺寸: 长度: 530MM,厚度: 6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做
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Product description

纯度:   

In2O3:SnO2

冷等静压+高温烧结+帮定

≥ 7.13g/cm3(≥99.7%)

≥ 99.99%

化学式: 

成型工艺: 

密度:  

≤10 

最大杂质含量(单位: ppm,总杂质含量≤100ppm)

Fe

≤10

Ni

≤10

Cr

≤10

Si

≤20

Pd

≤10

Cu

最大加工尺寸: 

长度L: 530MM   厚度T: 6-13MM

直型、狗骨型

按客户要求定做

Rotatable ITO Sputtering Target

 

旋转氧化铟锡靶 

产品化学成分和物理性能:

应用: 

主要用于TN,STN型液晶显示器和触摸屏,半导体电子,薄膜太阳能行业,建筑玻璃

 
 
 
 
 
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