搜索
搜索
磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

浏览量:
1016

旋转氧化铟锡靶ITO

化学式:In2O3:SnO2
成型工艺: 冷等静压+高温烧结+帮定
密度: ≥ 7.13g/cm3(≥99.7%)
纯度: ≥ 99.99%
应用: 主要用于TN,STN型液晶显示器和触摸屏,半导体电子,薄膜太阳能行业,建筑玻璃
最大加工尺寸: 长度: 530MM,厚度: 6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做
零售价
0.0
Yuan
市场价
0.0
Yuan
浏览量:
1016
产品编号
前台产品分类:
陶瓷靶材
数量
-
+
库存:
所属分类
返回列表
1
产品描述
参数

纯度:   

In2O3:SnO2

冷等静压+高温烧结+帮定

≥ 7.13g/cm3(≥99.7%)

≥ 99.99%

化学式: 

成型工艺: 

密度:  

≤10 

最大杂质含量(单位: ppm,总杂质含量≤100ppm)

Fe

≤10

Ni

≤10

Cr

≤10

Si

≤20

Pd

≤10

Cu

最大加工尺寸: 

长度L: 530MM   厚度T: 6-13MM

直型、狗骨型

按客户要求定做

Rotatable ITO Sputtering Target

 

旋转氧化铟锡靶 

产品化学成分和物理性能:

应用: 

主要用于TN,STN型液晶显示器和触摸屏,半导体电子,薄膜太阳能行业,建筑玻璃

 
 
 
 
 
关键词:
陶瓷靶材
扫二维码用手机看
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
上一个

Copyright © 2020  UVTM  All Rights Reserved.  粤ICP备16095832号  网站建设:中企动力广州

手机客服

发布时间:2020-05-09 00:00:00

 

在线客服

发布时间:2020-05-06 00:00:00