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磁控溅射靶材 磁控溅射靶材
电子浆料

磁控溅射靶材

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1012

旋转银靶Ag

化学式:Ag
成型工艺: 喷涂
密度: ≥ 10.4g/cm³(≥99%)
纯度: ≥ 99.99%
应用: 主要用于Low-E镀膜玻璃, 薄膜太阳能行业, TFT-LCD, 半导体电子
最大加工尺寸: 长度: 4000MM   厚度: 6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做
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金属靶材
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1
产品描述
参数

Ag

喷涂

≥ 10.4g/cm³(≥99%)

≥ 99.99%

化学式: 

成型工艺: 

密度:  

纯度:   

≤200

最大杂质含量(单位: ppm, 总杂质含量≤100ppm)

Fe

≤50

Cu

≤30

≤500

N

Al

≤10

O

 

最大加工尺寸: 

长度L: 4000MM   厚度T: 6-13MM

直型、狗骨型

按客户要求定做

 

旋转银靶 

 

产品化学成分和物理性能:

应用: 

主要用于Low-E镀膜玻璃, 薄膜太阳能行业, TFT-LCD, 半导体电子

 
 
 

Rotatable Ag Sputtering Target

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