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           名称:锆靶

                        格:旋转靶材、平面靶材                         纯度:≥99.9%      

                 成型工艺:冷轧锻造、真空熔炼                                 

                 应       用:装饰与功能镀膜工业


                                                                                                                                                                                                           了解更多.png                                     





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           名称:铜靶

                        格:旋转靶材、平面靶材                         纯度:≥99.999%      

                 成型工艺:冷喷涂、挤压拉拔                                 

                 应       用:半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、装饰与功能镀膜工业、

                                  节能与智能玻璃工业、超导与量子电子工业

                                                                                                                                                               了解更多.png







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           名称:铁靶

                        格:旋转靶材                                          纯度:≥99.4%      

                 成型工艺:冷喷涂                                 

                 应       用:装饰与功能镀膜工业

           

                                                                                                                                                               了解更多.png                                     






清言AI画图_0427.jpg

           名称:

                        格:旋转靶材                                          纯度:≥99.9%      

                 成型工艺:浇筑                                 

                 应       用:半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、装饰与功能镀膜工业、超导与量子电子工业


                                                                                                                                                               了解更多.png                                     

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