半导体电子工业
·主要靶材
  金属/合金:Cu、Ti、W、Al、Ta、Ag、Au、Pt、Ni、Mo、Cr、SS、

  氧化物/陶瓷:PZT、LNO
·高纯蒸镀材料:Cu、Ni、Ti、W、Al、Mo、Cr、Ta、Ag、Au、Pt、

核心材料矩阵
Si、WTi、AlCu、AlSc、NiV、NiCr、NiFe、NiCu
Ir、Y
产品应用领域

1. 先进封装 | 极限互连

深耕 Flip-chip、Fan-out 3D 堆叠等尖端工艺。通过精准沉积 RDL(再布线层)与 UBM(球下金属化)阻挡层,显著提升封装密度与信号传输速率,确保膜层卓越的附着力与长期可靠性 。

2. 第三代半导体 | 功率巅峰

专为 SiC GaN 功率器件研发。提供在高温、高压、高频环境下具备优异导电性与结构稳定性的电极及保护膜方案,满足功率器件对材料耐用性与稳定性的严苛要求 。

3. MEMS 器件 | 精微感知

赋能微机电系统。在微小尺寸下沉积高均匀性的敏感膜与功能膜,确保传感器与陀螺仪具备极高的灵敏度、可靠性及工作性能表现 。

4. 电子元器件 | 稳态基石

助力电容、电阻及各类传感器生产。通过制备高性能导电层与介电层,有效提升器件的耐环境性能与绝缘能力,延长产品使用寿命并保持电性稳定 。

为什么选择尤特新材?0
高纯品质: 严苛控制杂质与晶粒度,确保薄膜具备极致的厚度均匀性与稳定性 。

体系认证: 生产过程严密遵循 IATF 16949 、ISO 9001、ISO 14001 、ISO 45001等管理体系认证 。

全链赋能: 提供从材料定制、背板绑定到大面积溅射应用的全方位技术支持 。

工艺支持: 助力高端制程发展,通过优化薄膜性能,推动绿色制造与成本结构的深度优化 。
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