旋转铬靶Cr

化学式：Cr                                                                    成型工艺：喷涂

密度：≥6.47g/cm³                                                       纯度：≥99.5%

应用：用于制作Cr及CrNO膜，主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子

最大加工尺寸：长度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客户要求定做

‍‍旋转硅靶Si‍

化学式：Si                                                                  电阻率（20℃）：0.01-400Ω.cm

成型工艺：喷涂                                                           密度：≥2.26g/cm3（≥96%）

纯度：≥99.9%

应用：用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏

最大加工尺寸：长度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客户要求定做