‍‍旋转氧化锆‍靶ZrOx‍

化学式：Zr0x（1.5<x<1.9）                               电阻率（20℃）：≤1Ω.cm成型工艺：喷涂

密度：≥5.45g/cm³                                             纯度：≥99.7%（含Hf）

应用：主要用于触摸屏，Low-E玻璃膜系，工具镀膜和装饰镀膜

最大加工尺寸：长度：4000MM厚度：6-8MM，直型、狗骨型，按客户要求定做

‍‍旋转钛铝靶TiAI‍

化学式：TiAI                                                           成分：50：50at%

成型工艺：喷涂                                                       密度：≥3.7g/cm3

纯度：≥99.5%

应用：用于制作陶瓷钛铝合金膜，主要用于装饰镀和工具镀半导体电子

最大加工尺寸：长度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客户要求定做