‍旋转氧化‍铟‍‍‍锡靶ITO

化学式：In203：SnO2                                     成型工艺：冷等静压+高温烧结+帮定

密度：≥7.13g/cm³（≥99.7%）                       纯度：≥99.99%

应用：主要用于TN，STN型液晶显示器和触摸屏，半导体电子，薄膜太阳能行业，建筑玻璃

最大加工尺寸：长度：530MM，厚度：6-13MM，直型、狗骨型，按客户要求定做

‍旋转银靶Ag

成型工艺：喷涂                                                         密度：≥10.4g/cm（≥99%）

纯度：≥99.99%

应用：主要用于Low-E镀膜玻璃，薄膜太阳能行业，TFT-LCD，半导体电子

最大加工尺寸：长度：4000MM厚度：6-13MM，直型、狗骨型，按客户要求定做